Transmissioonelektronmikroskoopia (TEM) labor

TEM tehnikate võimalused bioloogilise materjali analüüsiks TÜMRI EM laboris

Tecnai G2 Spirit BioTwin elektronmikroskoop võimaldab kasutajatel analüüsida bioloogilisi preparaate põhiliselt klassikaliste epoksü-lõikude tegemisel kudedest ja rakkudest, aga uurida ka viiruspartikleid, baktereid või nanokomplekse negatiivse kontrasteerimise meetodil. BioTwin läätsede konfiguratsioon on optimaalne kõrge kontrastsuse ning lahutuvusega kujutiste analüüsiks. 

Seadmete tehnilised spetsifikatsioonid (PDF)

Hinnakiri

Seadmed:

Transmissioonelektronmikroskoop

Mudel: Tecnai G2 Spirit BioTWIN (Philips Electron Optics, Holland)
Asukoht: Vanemuise 46, ruum 135

Lahutusvõime (nm): 
•    Joonresolutsioon: 0,344
•    Punktresolutsioon: <0,490
Elektronide allikas: volfram-elektrood või LaB6
Kiirenduspinge: 20 - 120 kV
Suurendusvõime: 22 – 340 000 x 
Lisavarustus: 
•    Gatan Orius SC 1000 CCD kaamera, paikneb mikroskoobi alumises positsioonis, resolutsiooniga 11 megapikslit (4008 x 2672 pikslit) (Gatan Inc., USA), (tehnilised andmed Orius brošüüris)
•    Olympus-SIS Veleta CCD kaamera, paikneb mikroskoobi külg-positsioonis, resolutsiooniga 2048 x 2048 pikslit) (Olympus SIS GmbH), (tehnilised andmed Veleta brošüüris)
•    CompuStage single-tilt holder, tavakasutuses olev preparaadi varras

 

FEI Tecnai preparaadihoidja on disainitud ühesuunaliseks kallutuseks -70° kuni +70° ulatuses. Mikroskoop on varustatud eutsentrilise külg-portaaliga äärmiselt tundliku ja stabiilse, arvutiga juhitava CompuStage’ga, mis võimaldab preparaadi liikumist kõigis XYZ positsioonides.


Tarkvara:
•    Digital Micrograph programm Gatan kaamera juhtimiseks
•    FEI TEM Imaging & Analysis (TIA) tarkvara nii Veleta kui Gatan kaameratega saadud kujutiste salvestamiseks ning andmete töötlemiseks 

Ultramikrotoomid

Ultramikrotoomid on mõeldud üliõhukeste elektronmikroskoopia lõikude valmistamiseks. Peamiselt epoksüvaiku sisestatud koeproovidest üliõhukeste (tavaliselt 60-100 nm) lõikude saamiseks kasutatatakse spetsiaalset teemant- või klaasnuga.

Mudel: Leica Ultracut EM UC7 (Leica Microsystems GmbH, Austria) 
Lõigu paksus: kuni 15 µm
Lõikeulatus (cutting window): 0,2 – 14 mm ulatuses reguleeritav
Lõikamiskiirus: 0,05 – 100 mm/s
Noahoidja: 360° pööratav
Preparaadihoidja: 360° pööratav


Lisavarustus:
•    Leica EM FC7 krüokamber, madalal temperatuuril lõikamissüsteem Leica UC7 ultramikrotoomile. Võimaldab lõigata üliõhukesi ning poolpakse (kuni 15 µm) lõike eelkõige bioloogilistest (Tokuyasu, vitrifitseeritud proovid), kuid ka pehmetest tööstuslikest proovidest (polümeerid) temperatuuril -15 °C  kuni -185 °C. Ühendatud vedela lämmastiku pumbaga
•    Leica EM CRION, antistaatiline seade krüokambriga töötamiseks
 

Mudel: RMC PowerTome MT-XL (Boeckeler Instruments, Inc., USA) 
Lõigu paksus: 5 nm kuni ~10 µm
Lõikeulatus (cutting window): 0,2 – 15 mm ulatuses reguleeritav
Lõikamiskiirus: 0,1 – 49,9 mm/s (reguleeritav 0,1 mm/s sammuga)
Noahoidja: 360° pööratav (± 45° astmelises skaalas)
Preparaadihoidja: 360° pööratav
 

Mudel: Reichert Jung 2050 Supercut (tootja C. Reichert Optische Werke AG, Austria, nüüd Leica Microsystems GmbH, Austria.) 
Lõigu paksus: ~2 -15 µm

Mikrotoom on mõeldud peamiselt plastikusse sisestatud proovidest poolpaksude lõikude valmistamiseks. 
 

Vaakum-katja

Vaakum-katja on seade, mida kasutatakse elektronmikroskoopia proovide katmiseks peamiselt süsinikuga (süsinikniidi või -nööri aurustamisel/põletamisel). Süsinikukihi paksust ja täpsust kontrollib integreeritud kvartskristalli mõõtmissüsteem. Vaakumkatjat kasutatakse ka huumlahenduse tegemiseks EM proovidele. See on protsess, mille käigus muudetakse EM võrkude pind hüdrofiilseks.

Mudel: Leica EM ACE600 (Leica Microsystems GmbH, Austria) 
Vaakumsüsteem: ≤ 2x10-6 mbar
Katmisaeg: 1 – 1800 sek
Kattekihi paksus: 1 – 1000 nm
Kvartsi resolutsioon: üks kümnendik (0,1 nm) täpsusega
Eseme laud: sobiv kahele 76 mm x 26 mm alusklaasile või 24 positsioonile 12,7 mm SEM proovile (vahetatav), pöörlev
Huumlahendus: 5 – 15 mA, reguleeritav huumlahenduse aeg ning kaugus preparaadi pinna ja plasma genereerimise allika vahel.
 

Pilte TÜMRI TEM labratooriumist

Piltidel näha ülalkirjeldatud seadmed.

Kas leidsite vajaliku informatsiooni? *
Aitäh tagasiside eest!